2023年11月，在西安举办的第二届UltrafastX国际会议上，光子芯片研究院关于新型激光光刻技术的研究成果获得《超快科学》（Ultrafast Science）杂志“优秀封面评选”二等奖。光子芯片研究院《超快科学》上发表题为“用于制作90纳米超衍射极限精度石墨烯图案的双光束超快激光直写技术”（Two-beam ultrafast laser scribing of graphene patterns with 90 nm sub-diffraction feature size）的研究成果，上海理工大学为第一单位，陈希教授为第一作者，顾敏院士为通讯作者。
石墨烯的激光直写图案化被广泛应用于多种电学器件的性能突破。在传统的直写过程通常使用单光束光刻还原氧化石墨烯，由于光学衍射极限的限制，目前所报道的激光直写石墨烯的图案线宽在微米量级，因此制作超越衍射极限的纳米尺度的石墨烯图案成为光刻领域的巨大挑战。
光子芯片研究院的研究人员找到了一条用于制造纳米尺度石墨烯图案的双光束光刻路径，其中需要操纵甜甜圈形的石墨烯还原激光光束和球形的石墨烯氧化激光光束。两束激光光束的联合作用形成超越衍射极限尺度、最小线宽为90纳米的光刻线。由于石墨烯是碳基电路的基础材料，这项光刻工艺会为新一代微纳米碳基电路的制造提供基础技术支撑。
该工作得到了国家自然科学基金委员会和上海市科委等单位的支持。《超快科学》是由中国科学院主管、中国科学院西安光学精密机械研究所主办的光学工程领域国际学术刊物，旨在刊载超快科学研究领域的新理论、新技术、新进展，提高我国在该领域的科研水平和国际影响力。
